三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3
时间:2024-01-16 02:08:18 栏目:学习方法
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题目内容:
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3 5H2O=2NO HNO3 9HF.下列有关该反应的说法正确的是()
A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂
B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:
1、
C.若生成0.2molHNO3,则转移0.2mol电子
D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体
最佳答案:
A.只有N元素的化合价发生变化,NF3既是氧化剂又是还原剂,故A错误;
B.NF3生成NO,被还原,NF3生成HNO3,被氧化,还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:
1、,故B正确;
C.生成0.2molHNO3,转移的电子的物质的量为0.2mol×(5-3)=0.4mol,故C错误;
D.生成的NO易与空气中氧气反应生成红棕色气体二氧化氮,故D正确.
故选BD.
答案解析:
该题暂无解析
考点核心:
氧化还原反应的本质:电子的转移(得失或偏移) 氧化还原反应的特征:化合价升降(某些元素化合价在反应前后发生变化,是氧化还原反应判别的依据)
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